第四百一十章 65纳米成，塞班系统落地[1/2页]

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    2005年6月25日。
    长春光机所。
    这是蒋尚义来到光机所的第五十四天。
    或许是因为大家都是搞科研的原因，蒋尚义来长春没几天就融入团队之中。
    在这一个多月的时间里，蒋尚义和陈学祖等人多次交流，双方在对方身上学到不少东西。
    此时蒋尚义和陈学祖等人围在实验室的电子透射镜前。
    钟飞熊小心翼翼地将芯片放入电子透射镜的仪器中。
    此时站在他身后的人一个个紧张不已。
    有些人甚至手心都出汗了。
    透射镜反映出来的结果将验证他们这段时间以来的努力是否成功。
    随着透射镜电机的转动，画面变得越来越清晰，软件上的参数也在随之变动。
    97nm
    85nm
    76nm
    65nm
    数值最终停留在65纳米上。
    “我们成功啦。”一名年轻研究员激动地说道。
    “65纳米，我们真的做到了。”另一名年纪较大研究员擦拭眼角的泪水说道。
    “65纳米，我们足足领先了欧美一个时代。”一名女性研究员两只眼睛瞪得大大的，呆呆地看着显示器自言自语道。
    这种事情要是放在以前，那是想都不想的事情，可是现在他们真的做到了。
    研究员激动地互相拥抱，这些人更是流下开心的泪水。
    正当众人激动开心的时候，陈学祖给众人拨了个冷水。
    “你们一个两个地激动个屁啊，就算成功了也跟我们没什么关系，这次成功是建立在别人的基础上，换个团队来改良一样可以做出来。什么时候我们造出一台完全自主的光刻机不再激动。”
    陈学祖说的有错吗？
    没有。
    光刻机是尼康的，改造方案是曹莽提供的
    说句难听点的他们只是工具人而已，换个工具人来一样能把机器改造好。
    但是他们当这个工具人吃亏吗？
    一点都不吃亏。
    陈学祖在这次改造工程中就累积到不少经验，这些经验能为他们研发自主光刻机打下良好的基础。
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