第九百一十五章 天大的好消息[2/2页]

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    提高到了193纳米。
    nbsp要知道当时的华国最高芯片制程还停留在五百纳米阶段。
    nbsp而且它们还有可能打破芯片制程的瓶颈，突破193纳米。
    nbsp这对江宇而言是个天大的惊喜。
    nbsp六年！六年啊！
    nbsp他在这个项目上的投资已经六年，累
    nbsp积投入了数以两亿计的资金。
    nbsp头两年他的投资都是千万，第三年上涨到了三千万。
    nbsp三千万投了两年，最近两年更是每年的投入达到了五千万。
    nbsp如果再不成功，后年他的投资将以亿元来算计。
    nbsp他以为这个光刻机要到两千年才能成功，想不到今年就成功了。
    nbsp江宇第一时间就赶到了渤海电子，听取了渤海电子光刻机部门经理徐家树的汇报。
    nbsp「现在能投入芯片量产吗？」
    nbsp「暂时还不能，这台机器还相当的简陋，运作也还不稳定，现在还处于试验阶段，只是理论上。能达到生产的需求，实际上还根本做不到。要它稳定下来还得继续试验，要投入商用还不知道的哪年，就算商用也还只能生产193纳米的芯片。」
    nbsp「那再往下呢？」
    nbsp193纳米只是追平了国外十多年前的制程，这没什么可炫耀的。
    nbsp顶多就是我可以生产这个级别的制程了。
    nbsp「理论上可以实现134纳米的制程，甚至64纳米的制程，不过需要时间。」
    nbsp此时的光刻机市场被佳能和尼康两个本子国企业把持。
    nbsp它们现在押注157纳米的干式光刻机的研发，根本就没有人研究湿式光刻机的研发。
    nbsp它们认为光刻机这么精密的仪器，里面加水这一听就是胡扯的东西。
    nbsp而研究成功浸润式光刻机的是台积电人林本见，是他设计出了浸润式光刻机的方案，带着这个方案跑遍了米国得国本子国，但无人理会。
    nbsp尼康甚至仗着垄断地位要求台积电雪藏林本见。
    nbsp林本见走投无路之下才找到了当时在这一领域只配给人家提鞋的阿斯米。
    nbsp在二零零四，研发出了世界第一台浸润式光刻机。
    nbsp「徐工！您不用着急，到二零零零年能让这台光刻机稳定投产就行，若是能打破193纳米的瓶颈就更好，钱不是问题。」
    nbsp「到二零零零年呀？江总！这个你放心，保证用不了二零零零年，这个光刻机就能投产使用，到二零零零年说不定我们已经能做出134纳米的制程了。」
    nbsp「那就最好！把所有的技术全部申请专利。」
    nbsp「要不要对外公布？」
    nbsp「暂时不要，到二零零零年的时候再公布。」
    nbsp最好是到二零零二年的时候公布，这样林本见就死了心思或者说他还没来得及想，渤海电子就成功了。
    nbsp这样阿斯米这个企业也就不会再出现了。
    nbsp「保密工作一定要做好！」江宇临走时叮嘱徐家树。
    nbsp有了浸润式光刻机的专利，华国将来在芯片上落后也不会落后到哪里去了。
    喜欢。

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